| 专利号 | 91105060.4 | 申请日 | 1991.07.29 |
| 名称 | 真空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘 | ||
| 公开号 | CN1069087 | 公开日 | 1993.02.17 |
| 主分类 | D02G1/04 | 次分类 | D02G1/04;D01H7/92 |
| 纺织分类 | 施加假捻的装置 | 分案原申请号 | |
| 申请(专利权)人 | 袁磊 | 优先权 | |
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥芳园里一楼37号 | ||
| 发明(设计)人 | 袁磊; 费兰香; 刘金聚; 吴晓丹; 王向东; 王斐; 袁瑞明 | 国际申请 | |
| 国际公布 | 进入国家日期 | ||
| 机构 | 代理人 | ||
| 介绍 | 空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘技术是一种新的制作高速纺丝假捻变形加工用摩擦盘的技术。这种技术，是在真空中，由水冷阴极制成的蒸发的离化源，在电磁场的作用下，形成弧光等离子体，使阴极靶面均匀的熔蚀、蒸发、离化与活性气体作用，以金属的化合物结构沉积在摩擦盘基体上。用这种方法制作的摩擦盘，镀层致密，附着力强，颗粒度及表面粗糙度可控。可取代国内外传统用等离子体喷射方法。沉积后无需二次加工，镀层均匀。 | ||
